Thermal behaviour of Co/Si/W/Si multilayers under rapid thermal annealing
S. Luby, M. Jergel, A. Anopchenko, A. Aschentrup, F. Hamelmann, E. Majkova, U. Kleineberg, U. Heinzmann, Applied Surface Science 150 (1999) 178–184.
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Artikel
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Autor*in
Luby, S;
Jergel, M;
Anopchenko, A;
Aschentrup, A;
Hamelmann, Frank
;
Majkova, E;
Kleineberg, U;
Heinzmann, U
;
Majkova, E;
Kleineberg, U;
Heinzmann, UErscheinungsjahr
Zeitschriftentitel
Applied Surface Science
Band
150
Zeitschriftennummer
1-4
Seite
178-184
ISSN
FH-PUB-ID
Zitieren
Luby, S ; Jergel, M ; Anopchenko, A ; Aschentrup, A ; Hamelmann, Frank ; Majkova, E ; Kleineberg, U ; Heinzmann, U: Thermal behaviour of Co/Si/W/Si multilayers under rapid thermal annealing. In: Applied Surface Science Bd. 150, Elsevier BV (1999), Nr. 1–4, S. 178–184
Luby S, Jergel M, Anopchenko A, et al. Thermal behaviour of Co/Si/W/Si multilayers under rapid thermal annealing. Applied Surface Science. 1999;150(1-4):178-184. doi:10.1016/S0169-4332(99)00243-3
Luby, S., Jergel, M., Anopchenko, A., Aschentrup, A., Hamelmann, F., Majkova, E., … Heinzmann, U. (1999). Thermal behaviour of Co/Si/W/Si multilayers under rapid thermal annealing. Applied Surface Science, 150(1–4), 178–184. https://doi.org/10.1016/S0169-4332(99)00243-3
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Luby, S, M Jergel, A Anopchenko, A Aschentrup, Frank Hamelmann, E Majkova, U Kleineberg, and U Heinzmann. “Thermal Behaviour of Co/Si/W/Si Multilayers under Rapid Thermal Annealing.” Applied Surface Science 150, no. 1–4 (1999): 178–84. https://doi.org/10.1016/S0169-4332(99)00243-3.
S. Luby et al., “Thermal behaviour of Co/Si/W/Si multilayers under rapid thermal annealing,” Applied Surface Science, vol. 150, no. 1–4, pp. 178–184, 1999.
Luby, S., et al. “Thermal Behaviour of Co/Si/W/Si Multilayers under Rapid Thermal Annealing.” Applied Surface Science, vol. 150, no. 1–4, Elsevier BV, 1999, pp. 178–84, doi:10.1016/S0169-4332(99)00243-3.
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