Silicon oxide nanolayers for soft X-ray optics produced by plasma enhanced CVD
F. Hamelmann, A. Aschentrup, J. Schmalhorst, U. Kleineberg, U. Heinzmann, K. Dittmar, P. Jutzi, Le Journal de Physique IV 11 (2001) 431–436.
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Autor*in
Hamelmann, Frank
;
Aschentrup, A.;
Schmalhorst, J.;
Kleineberg, U.;
Heinzmann, U.;
Dittmar, K.;
Jutzi, P.
;
Aschentrup, A.;
Schmalhorst, J.;
Kleineberg, U.;
Heinzmann, U.;
Dittmar, K.;
Jutzi, P.Erscheinungsjahr
Zeitschriftentitel
Le Journal de Physique IV
Band
11
Zeitschriftennummer
3
Seite
431-436
ISSN
FH-PUB-ID
Zitieren
Hamelmann, Frank ; Aschentrup, A. ; Schmalhorst, J. ; Kleineberg, U. ; Heinzmann, U. ; Dittmar, K. ; Jutzi, P.: Silicon oxide nanolayers for soft X-ray optics produced by plasma enhanced CVD. In: Le Journal de Physique IV Bd. 11, EDP Sciences (2001), Nr. 3, S. 431–436
Hamelmann F, Aschentrup A, Schmalhorst J, et al. Silicon oxide nanolayers for soft X-ray optics produced by plasma enhanced CVD. Le Journal de Physique IV. 2001;11(3):431-436. doi:10.1051/jp4:2001354
Hamelmann, F., Aschentrup, A., Schmalhorst, J., Kleineberg, U., Heinzmann, U., Dittmar, K., & Jutzi, P. (2001). Silicon oxide nanolayers for soft X-ray optics produced by plasma enhanced CVD. Le Journal de Physique IV, 11(3), 431–436. https://doi.org/10.1051/jp4:2001354
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Hamelmann, Frank, A. Aschentrup, J. Schmalhorst, U. Kleineberg, U. Heinzmann, K. Dittmar, and P. Jutzi. “Silicon Oxide Nanolayers for Soft X-Ray Optics Produced by Plasma Enhanced CVD.” Le Journal de Physique IV 11, no. 3 (2001): 431–36. https://doi.org/10.1051/jp4:2001354.
F. Hamelmann et al., “Silicon oxide nanolayers for soft X-ray optics produced by plasma enhanced CVD,” Le Journal de Physique IV, vol. 11, no. 3, pp. 431–436, 2001.
Hamelmann, Frank, et al. “Silicon Oxide Nanolayers for Soft X-Ray Optics Produced by Plasma Enhanced CVD.” Le Journal de Physique IV, vol. 11, no. 3, EDP Sciences, 2001, pp. 431–36, doi:10.1051/jp4:2001354.
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